도핑기술,확산공정,이온주입공정 구성과 장단점
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작성일 23-01-24 08:45
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확산 공정의 종류
장·단점
운반자 농도
다.
☞ 자료(資料)를 참고하시고 반드시 본인의 意見(의견)을 추가하셔서 제출해야 좋은점수를 받으실수있습니다. ☞ 이자료는 해피레포트 환불정책 동의자료입니다.
설명
N형 도핑
운반자 농도
▣ 운반자 농도
레포트 > 기타
◈ 확산(Diffusion) 공정
◈ 도핑(Doping) 기술
◈ 확산(Diffusion) 공정
◈ 도핑(Doping) 기술
이온 주입(Ion implantation)
장·단점
P형 도핑
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● 하지만 도핑된 반도체의 다수 운반자 농도와 소수 운반자 농도를 곱하면, 고유 운반자 농도의 제곱이 되는 것은 변하지 않는다. (부적절한자료일경우 100% 환불)
이온 주입(Ion implantation)
N형 도핑
확산(Diffusion)의 종류
장치 구성
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도핑(Doping) 이란?
확산(Diffusion) 공정
☞ 이data(資料)는 해피리포트 환불정책 동의data(資料)입니다.
확산 공definition 종류
확산(Diffusion)의 종류
도핑(Doping) 이란?
도핑기술,확산공정,이온주입공정 구성과 장단점
● 반도체에 도핑을 하면, 이 도핑 농도에 따라 다수 운반자의 농도가 고유 운반자 농도(고유 반도체에서의 운반자 농도)보다 증가하게 된다.
도핑기술,확산공정,이온주입공정 구성과 장단점
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◈ 이온 주입(Ion implantation) 공정
● 그렇다면, 다수 운반자의 농도는 사실상 도핑 농도에 따라 결정되기 때문에 소수 운반자의 농도도 도핑농도에 의해 effect을 받는다는 것을 쉽게 알 수 있다. (부적절한data(資料)일경우 100% 환불)
순서
장치 구성
◈ 이온 주입(Ion implantation) 공정
P형 도핑
확산(Diffusion) 공정
● 예를 들어 어떤 온도에서 고유 운반자(전자와 정공) 농도가 10¹³/cm³ 라고 해 보자. 만약에 N형으로 도핑된 농도가 10¹⁶/cm³ 라면, 정공의 농도는 10¹⁰/cm³ 가 된다.
